APS成像器件在民用成像、遙感等領(lǐng)域都有著重要的應(yīng)用。上海技術(shù)物理研究所硅器件室圍繞高性能APS器件技術(shù)的發(fā)展和相關(guān)任務(wù)的需求,2010年重點(diǎn)開(kāi)展了面陣器件的攻關(guān),目前已經(jīng)研制出新的128×128和330×256器件,獲得清晰的圖像,取得關(guān)鍵突破。
新的128×128APS采用的是0.18μm的4T像素設(shè)計(jì),單元像素小于10μm×10μm,器件研制一次成功,性能良好,為更大規(guī)模的APS器件研制奠定了基礎(chǔ)。330×256APS采用的是0.5微米工藝,在可見(jiàn)光波段平均量子效率達(dá)到50%以上,用簡(jiǎn)易光學(xué)系統(tǒng)對(duì)330×256APS進(jìn)行了成像試驗(yàn),獲得清晰照片(見(jiàn)附圖),以上兩種APS面陣器件的研制推動(dòng)了APS技術(shù)的新發(fā)展。

圖為330*256面陣成像圖
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